近松が札幌コンベンションセンターで開催されたThe 22nd International Vacuum Congress IVC-22にて、「Crystal structure and electronic property modification of layered calcium ruthenium oxyfluoride thin films」のタイトルで口頭発表を行いました。

近松が信州大学長野(工学)キャンパスで開催された第46回日本磁気学会学術講演会にて、「Layered ruthenium and iridium oxyfluoride thin films fabricated via topochemical fluorination」のタイトルで招待講演を行いました。