近松が第46回日本磁気学会学術講演会で招待講演を行いました。

近松が信州大学長野(工学)キャンパスで開催された第46回日本磁気学会学術講演会にて、「Layered ruthenium and iridium oxyfluoride thin films fabricated via topochemical fluorination」のタイトルで招待講演を行いました。