パルスレーザー堆積装置 (2台稼働中)

単結晶薄膜の作製に用います。レーザー光源にはNd:YAGレーザーを使用しています。

 

スパッタリング堆積装置

金属薄膜の作製に用います。

 

クイックコーター

金属電極の蒸着に利用します。

 

管状炉(3台稼働中)

主にトポケミカル反応に使用しています。

 

電気炉(4台稼働中)

酸化物多結晶体の合成や基板のアニールに使用します。

 

薄膜用X線回折装置

2次元ディテクターを搭載しており、薄膜の結晶構造や結晶性を評価します。

 

触針式表面形状測定器

薄膜の膜厚を測定します。

 

紫外可視分光光度計

光学バンドギャップを計測するのに用います。

 

ソースメーター

4端子抵抗測定で薄膜の導電性を評価します。

 

計算機ワークステーション

第一原理電子状態計算を行うのに用いています。

 

X線光電子分光装置(共用装置)

化学組成や電子状態を調べるのに用います。